Litografi Sistemi

NanoDEV olarak sizlere firmamız bünyesinde geliştirilen fotolitografi cihazını tanıtmak istiyoruz.
Fotolitografi temel olarak ışıkla yazı ve şekil oluşturma olarak adlandırılabilir. Önceden hazırlanmış bir maske kullanılarak hedeflenen şekiller silikon levha (wafer) üzerine aktarılır. Bu aktarım sırasında fotoresist malzemenin ışık gören kısımları çözünürken ışık görmeyen kısımlarda herhangi bir değişiklik meydana gelmez. Fotolitografi tekniğinin yarıiletken endüstrisinin gelişmesi ile litografi süreçlerin kullanım alanları ve kabiliyetlerinde önemli gelişmeler olmuştur. Fotolitografi hakkında yanda bir video bulabilirsiniz.
Geliştirdiğimiz fotolitografi sistemi intel vb. firmaların yaygın olarak kullandığı teknikleri baz alarak ve uygun maliyet prensibi gözlemlenerek mercek sistemi temeline dayanmaktadır. Laboratuvarlarda yaygın olarak kullanılan litografi sistemlerinde bir yapının oluşturulma süreci 5-6 saati bulabilirken bu sistem sayesinde saniyeler içerisinde hedeflediğiniz tasarımı oluşturabilme şansına sahipsiniz. Üstelik herhangi bir temiz oda koşullarına da ihtiyaç duymamaktasınız.

Litografi sisteminin kullanım alanları aşağıda gösterilmiştir.

 entegre devre micro akışkan pcbdevre
Entegre DevreMikro-Akışkan KanallarElektronik Devre